主要內(nèi)容

此篇文章中，中國科學(xué)院物理研究所和美國耶魯大學(xué)的研究人員開展合作研究，研究團(tuán)隊在前期工作的基礎(chǔ)上，打通了非晶合金高通量實驗和實驗數(shù)據(jù)自動分析的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，實現(xiàn)了非晶合金新材料的高通量、流程化研發(fā)?；谠撗邪l(fā)模式，團(tuán)隊采集分析了5700余種合金的X射線衍射（XRD）圖譜，發(fā)現(xiàn)XRD第一峰的峰寬（Δq）在同一合金體系內(nèi)隨成分的改變呈規(guī)律性變化，合金的非晶形成能力與Δq有明顯關(guān)聯(lián)，寬的Δq對應(yīng)強的非晶形成能力。利用Δq和GFA的關(guān)聯(lián)（Δq-GFA判據(jù)），該團(tuán)隊在以往未被報道的Zr-Cu-Cr和Ir-Co-Ta合金體系中發(fā)現(xiàn)了非晶形成能力強、能夠形成塊體的非晶合金新材料，證明Δq-GFA判據(jù)是指導(dǎo)非晶合金新材料高效研發(fā)的有利工具。

該研究成果不僅為探索非晶合金新材料提供了便捷、實用、高效的新判據(jù)，可大幅提高研發(fā)非晶合金新材料的效率（和傳統(tǒng)的“試錯法"相比，效率提高200多倍；和以往的高通量實驗方法相比，效率提高100倍），而且改變了傳統(tǒng)認(rèn)為的特定團(tuán)簇出現(xiàn)越多非晶形成能力越強的研究結(jié)論，為認(rèn)識非晶形成機理給出了新的方向。

其中由巨力光電代理的 kSA MOS UltraScan離線薄膜應(yīng)力測量系統(tǒng) 為該研究提供了精確的曲率和薄膜殘余應(yīng)力的測量

產(chǎn)品推薦

kSA MOS UltraScan 離線薄膜應(yīng)力測量系統(tǒng) 采用非接觸 MOS（多光束光學(xué)傳感） 激光技術(shù)；不但可以對薄膜的應(yīng)力、表面曲率和翹曲進(jìn)行準(zhǔn)確的測量，還可二維應(yīng)力 Mapping成像統(tǒng)計分析；同時準(zhǔn)確測量應(yīng)力、曲率隨溫度變化的關(guān)系。

文獻(xiàn)信息

Data-driven discovery of a universal indicator for metallic glass forming ability

Ming-Xing Li, Yi-Tao Sun, Chao Wang, Li-Wei Hu, Sungwoo Sohn, Jan Schroers, Wei-Hua Wang & Yan-Hui Liu